运动平台是这些复杂程序的组成部分,必须与真空环境兼容。

Renishaw的滋补UHV光学编码器专门设计用于高和超高真空机箱,并满足FPD和半导体工艺设备的严格要求。基于韩国的Vad仪器为半导体,FPD和电子应用生产了各种精密运动平台。

VAD选择了雷尼绍的Tonic UHV编码器和RLE光纤编码器,为其最新的真空兼容平台提供了改进的运动控制性能。

挑战

为了产生高质量的真空或超高真空(UHV),首先通过一系列泵从封闭的空间(真空室)中除去空气。

许多现代精密工业过程在真空环境中进行,以最大限度地减少空气污染物的影响。真空兼容的运动平台包括专门设计的轴承,导轨,铅印和电机。在真空中,运动热量耗散通常是有问题的,并且可以通过冷却系统严格调节。真空相容组件的一个前提是除了通过残留气体分析(RGA)测量的排出量可忽略不计。

在真空室内安装的光学编码器组件(例如读数头和刻度)具有多种特征,包括高耐温性(>100°C)忍受UHV所需的烘烤程序。这些包括高清洁度,消除表面指纹,油和润滑剂;空气通风口,以确保读数头内的空气空间完全通风;具有PTFE绝缘和镀银铜编织的电缆;和激光题词而不是标记以除去粘合剂。

对于最终用户,仔细设计的真空设备可以降低泵送时间,更好的过程控制和更高的吞吐量。

解决方案

VAD设计和构建定制的精密运动平台和工艺设备,以用于真空环境。其运动控制产品使用雷尼绍的滋补编码器系统,根据精度要求指定的尺度。

Vad Present Baek-Kyun Song说:“我们的一般平台型号配备RTLC系列钢带秤。如果涉及先进的真空应用,例如显示面板AOI检测设备或半导体过程设备,我们将指定更高的精度relm尺度。通过真空兼容的补品读取负口读取刻度,并连接到真空室外的界面。市场上有许多高质量的编码器产品,但很少有吸尘器应用。 Renishaw的滋补UHV编码器提供出色的性能和可靠性,这是我们的最佳选择。“

从电缆到读数头到尺度的雷尼绍的Tonic UHV编码器已经设计用于10以下的真空压力-9 mbar。 Tonic UHV Readhead配备了RFI屏蔽电缆,其基本工作原理,规格和性能与标准滋补模型相同。编码器由洁净室和真空兼容的材料制成,设计成能够完全抽空读头主体。还通过在四极孔质谱仪上收集的残留气体分析(RGA)数据,由独立的试验机构认证了滋补UHV读数头和尺度。专门的密封箔包装确保每个辅音UHV编码器在洁净室内到达客户。

Tonic Encoder系列提供各种读取负选项,可与各种兼容的秤相匹配。宋先生解释了VAD的选择编码器秤的标准:“我们的一些高端型号使用高精度relm脚梁秤,其具有近零热膨胀,以确保在具有大温差的环境中保持定位精度。

例如,真空室内的温度通常可以从一侧到另一侧变化多达100℃。 Renishaw的编码器产品在市场上具有良好的声誉;滋补编码器系列经常在高性能设备的应用中看到,并被行业广泛认可。此外,雷尼绍的售后服务非常出色,包括常规产品公告。对我们来说,最重要的是交付是准时的,因此我们不会因零件等待而失去客户。“

对于纳米级精度,VAD采用Renishaw的RLE激光编码器系统,用于通过极端紫外光设计用于半导体掩模检查的XY阶段的位置反馈控制。 RLE系统使用安装在每个线性轴上的平面镜,适用于真空应用,因为激光头可以安装在真空室的外部。

宋先生继续:“雷尼绍为我们提供了成本效益和高性能的位置反馈解决方案,并提供了优异的技术支持和常规培训。 RLE激光编码器为我们的前端半导体工艺设备提供纳米精度,具有易于安装和设置的额外优势,以及短时间时间。“

VAD测试并在使用Renishaw的XL-80激光系统以进行机器校准和质量控制之前将其产品进行校准并校准其产品。这些系统快速,极其准确,线性测量精度为±0.5 ppm,轻质和便携式。

结果

RENISHAW的滋补编码器系列,RLE激光编码器系统和XL-80激光干涉仪系统组合为其运动平台的高级集成计量解决方案。

在真空应用中,具有20μm - 螺距克拉姆(Zeromet™)级别的滋补UHV编码器可提供每米±1μm的绝对精度,并具有仅0.75±0.35μm/ m /°C的热膨胀系数(20 °C)。尺度可以用自粘背胶或机械生产工程新闻手段安装,以避免在真空下粘接脱气。

RLE激光编码器具有低至38.6微米的卓越分辨率和一个低至±1nm的系统非线性误差(SDE)。

歌曲总结说:“我们对未来市场对真空应用设备的需求持乐观态度;特别是FPD和半导体制造的精密工业过程设备。目前,VAD正在开发这些应用程序的相关过程平台。“